ASML 组建专属团队协助三星得州工厂安装 EUV 光刻设备，加速 2 纳米 GAA 晶圆量产

若无 ASML 当前提供的极紫外光刻（EUV）设备，2 纳米全环绕栅极（GAA）晶圆的生产几乎无法实现。据 Fnnews 报道，这家荷兰公司正组建一支专门团队，协助三星在其位于美国得克萨斯州泰勒（Taylor）的新工厂安装相关设备。三星即将启动该工厂的运营，初期将利用上述光刻技术量产高性能人工智能芯片及其他半导体产品，首款产品预计为 Exynos 2600 处理器。

近期，ASML 在得克萨斯州奥斯汀地区发布了一则“现场服务工程师”的招聘广告。据报道，该职位的职责描述明确指出：“我们将支持三星 EUV 设备的初期启动工作。”简言之，ASML 正在组建一支专门团队，助力这家韩国科技巨头加速部署 2 纳米 GAA 晶圆生产所必需的关键设备。一位不愿透露姓名的行业人士表示，泰勒工厂已接近投产。

报道称，“ASML 设立‘泰勒专属团队’，可视为 EUV 设备安装准备工作全面展开的信号，表明泰勒工厂正逐步迈入实际运营阶段。”

据了解，除专属团队外，ASML 还正组建一支独立的“现场服务团队”，负责在设备运抵工厂前完成安装与测试工作。若缺乏这些关键硬件，三星几乎不可能启动 2 纳米 GAA 工艺的量产。此前有报道称，三星已于 9 月底开始 Exynos 2600 的批量生产，但初期月产量仅为 1.5 万片。

据消息人士透露，高通已收到采用 2 纳米 GAA 工艺制造的骁龙 8 Elite Gen 5 芯片样品用于评估。若良率持续改善，高通或将正式将三星纳入其代工合作伙伴名单。