尼康计划推出支持3D半导体的光刻机，目标2026年销量翻番

据日经新闻24日报道，尼康计划在2025财年（截至2026年3月）将把半导体光刻机主力机型的年销量增至2019-2021财年（截至2022年3月）3年平均销量的2倍以上。尼康计划以2023年上市的支持3D半导体的新产品为中心。

众所周知，光刻机是半导体制造的关键设备。但是在半导体光刻机市场，荷兰ASML一家独大，占据了大部分的市场。根据统计数据显示，2020年全球半导体光刻机总销量约413台，销售额约130亿美元，其中用于晶圆制造的基本均为ASML、尼康和佳能三家公司的产品。如果以销量来看，ASML销量为258台占比62%（其中EUV光刻机出货量已经达到 31台，如果以销售额来看，ASML的份额高达近90%），佳能销量为122台占比30%，尼康销量为33台占比8%。可以说，尼康已经是越来越边缘化了。

为了提升市场份额，尼康计划在2023年推出光源使用化合物“氟化氩（ArF）”、并支持3DIC的“ArF浸润式光刻机”的新产品，可以适应3D堆叠结构器件如3D NAND芯片、图像传感器制造需求。并希望将到2025年将ArF光刻机销量达到目前的两倍。目前，该公司平均每年售出16台ArF光刻机（含二手翻新）。