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国产光刻胶再获突破!可用于7nm工艺光刻胶通过验收

关键词:国产光刻胶

时间:2021-08-03 15:52:22      来源:互联网

7月29日,南大光电发布公告称,公司承担的国家科技重大专项(02 专项)已通过专家组验收。其中包括极大规模集成电路制造装备及成熟工艺、先进 7 纳米光刻胶产品开发与光刻胶供给链产业化。

7月29日,南大光电发布公告称,公司承担的国家科技重大专项(02 专项)已通过专家组验收。其中包括极大规模集成电路制造装备及成熟工艺、先进 7 纳米光刻胶产品开发与光刻胶供给链产业化。

据悉,这种光刻胶可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺,已建成年产25吨产业化基地。

公告显示,ArF光刻胶材料广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片、 存储芯片、AI 芯片、5G 芯片和云计算芯片等)。

长期以来, 国内高端光刻胶市场长期为国外巨头所垄断,对国内芯片制造具有“卡脖子” 风险。尽快实现先进光刻胶材料的全面国产化和产业化,具有十分重要的战略意义和经济价值。

此外,有关光刻胶产品知识产权及相关人才的培养。南大光电内部形成了由51人组成的ArF光刻胶研发及生产管理团队。在光刻胶成品的质量把控及良品率调控上,南大光电成功建成ArF光刻胶质量控制平台。

目前南大光电已具备年产25吨光刻胶成品的能力,其中包括5吨干式ArF光刻胶、20吨浸没式ArF光刻胶。

专利方面,截至2021年,南大光电申请专利总计91项、国内发明专利有81项、国际发明专利4项、实用新型专利6项(已授权)、制定团体标准3项、研制新产品2项。

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